中国的军用芯片和光刻机处于世界什么水平？

中国军用芯片产业很早就开始受到美国的禁运条款。包括欧洲也是禁运。

所以中国军用芯片，很早就开始了自主化的发展。中国在军用芯片上面的高强度投入，已经有20年多年了。

由于军用芯片有单独的体系，所以在民用市场并没有沾光太多。

（图片来自：长城证券）

国产CPU 在国防领域已广泛使用。国内自主研发的龙芯系列CPU 已经广泛的应用在航天、车载导航、交换机、军用电脑等领域。国产陆军和海军装备上的北斗导航一体化终端设备使用的是“龙芯1B”嵌入式CPU。

除了军用电脑使用龙芯CPU，指挥员的指挥机、单兵使用的终端机以及保密通信专用机均使用“龙芯”CPU。景嘉微的GPU取代进口芯片被军方采购。2014年景嘉微成功研发的 JM5400打破国外长期垄断GPU市场的局面，成功取代M9、M54、IMX6等进口芯片运用于军用显示器上。2018年最新研制GPUJM7200流片成功，目前已获得中电科下属单位的订单。国产DSP已经运用在军用雷达上。国产主流DSP有中电科38所的“魂芯”和中电科 14所的“华睿”。中电科38所研制的DSP“魂芯一号”已经成功运用在我国空警500预警机上。而2018年，“魂芯二号”和“华睿2号”均已流片，性能已经处于业界同类产品前列，有望应用于雷达、通信、工业机器人等领域。

北方华创是半导体设备领域的“国家队”，是国家02重大科技专项承担单位，受到国家集成电路产业投资基金的大力支持。公司通过承担重大专项多项课题的科研任务，先后完成了12吋集成电路制造设备90-28nm等多个关键制程的攻关工作，目前所承担的02专项在研课题14nm制程设备也已交付至客户端进行工艺验证。据公司公告，公司已将产品陆续推向了高端集成电路装备市场。所开发的用于12吋晶圆制造的刻蚀机、PVD、CVD、立式氧化炉、扩散炉、清洗机和气体质量流量控制器等设备产品已成功实现了产业化。其中28nm及以上技术代制程设备已批量进入了国内主流集成电路生产线量产，部分产品更成为了国内龙头芯片厂商的量产线Baseline机台；各类8英寸集成电路设备也全面进驻国内主流代工厂和IDM企业。公司在集成电路装备领域所取得的研发与产业化成果，在国家芯片国产化战略中发挥了核心骨干的带头作用。（信息来自：方正证券）

国内军工企业，在各类品牌领域的应用，很早就可以独立自主生产了。并且，本身军工领域的芯片，同民用领域就有很大的区别。所有制程上面，并没有强调当下的7nm，5nm制程工艺。

中国的军用芯片和光刻机处于世界什么水平？

众所周知我国在半导体行业由于起步晚、重视度不够，导致我国半导体行业相比于欧美国家来讲水平落后，虽然近年来我国一直在奋起直追，但是其中的差距并不是短时间可以弥补的，需要我们整合资源、人才全力进行研究，相信这个时间并不会太久！

我国在芯片设计方面并不落后于欧美国家，唯一欠缺的就是芯片制作和组装环节！由于芯片的制作需要用到光刻机，而全球最先进的光刻机只有荷兰一家公司能够制作，而这家公司的核心技术又是以美国为主导多国技术为辅的集合体！由于美国的从中阻拦，使我国一直无法购买到先进的光刻机，从而使得我国芯片制造技术一直无法停滞不前！

军用芯片和手机芯片不同，手机芯片更多的是追求是能耗低、体积小，而军用芯片更多的是追求耐用性、耐热性，对于体积要求并不大！所以我国目前的光刻机就可以完成军用芯片的生产，并且我国军用芯片都是自主研发，完全可以做到从设计到生产再到包装一条龙的国产化，从这一点来讲我国军用芯片方面依旧处于领先地位！而手机芯片的设计方面，我国也是顶尖的国家，像麒麟芯片在世界上都是顶尖的手机芯片，但是由于我国无法制作出来如此高端芯片，导致我国外手机芯片方面并不领先！

手机芯片无法生产，虽然会影响华为公司的手机业务，但是并不能动摇我国的根基！而军用芯片则是我国军事力量的重中之重，所以近年来我国对于军用芯片研发一直未曾停止，一直处于世界领先地位！

中国的军用芯片和光刻机处于世界什么水平？

    我国的中芯国际，由于采用了荷兰ASML的光刻机，是不能代工国内自主可控芯片、军用芯片的，这也是中芯国际购买荷兰ASML光刻机的保留条款。那么我国的军用芯片和光刻机处于什么水平呢？

    我国每年的芯片进口额高达2000亿美元，然而核心的军用芯片基本自给自足，并没有使用含有“美国技术”的光刻机生产，大部分军用芯片仍然采用了65nm、90nm，甚至130nm以下的工艺。

    军用芯片对性能要求不高，对稳定性、可靠性以及各种复杂地磁环境下的抗干扰能力。拿工作温度来说，商用CPU约为0~70度，而军用CPU则为-55~125度，航天用的芯片工作温度范围更大。制造工艺上，商用的手机处理器、电脑CPU采用了14nm、7nm制程工艺，而美国的很多军用芯片依旧采用了65nm制程工艺，先进的制程工艺抗电磁干扰的性能会变差。

    因此，国内自主设计的CPU、GPU等芯片，虽然在民用市场上缺乏竞争力，然而在军用芯片上广泛使用，比如我国的北斗卫星大量采用了龙芯处理器。

    我国生产光刻机的企业是上海微电子，成立与2002年，主要集中于低端光刻机市场。我国光刻机技术起步晚，同时遭到了西方国家的技术封锁，因此，目前造出来的光刻机主要集中于90nm及其以下的芯片工艺制造。根据最新的消息，上海电子已经突破了28nm制程工艺，将会推动国产光刻机向前迈进一大步。

    世界上最先进的光刻机是荷兰ASML的EUV光刻机，可以生产5nm制程工艺的芯片。上海微电子量产90nm制程工艺光刻机，技术上相差85nm，而时间上可能有15年以上的差距。

    总之，我国生产的光刻机，可以满足国内军用芯片、自主可控芯片的代工需求，毕竟军用芯片并不需要14nm以上的先进制程工艺。

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中国的军用芯片和光刻机处于世界什么水平？

我国军用芯片世界一流，光刻机技术世界三流。由于军用芯片只是对可靠性，耐高温性能，耐低温性能要求较高，而对工艺制程要求不像手机芯片那么高。所以说，以我国现有的技术制造出来的芯片，还是挺先进的，与国外没有差距。

我国军用芯片主要有“龙芯，华睿，魂芯”等型号，这些型号是可以实现自给自足的。除了CPU之类的芯片之外，还有一种现在军用电子设备离不开的芯片FPGA（现场可编程门阵列），这种芯片国产的性能与国际先进水平相差较大。而国产的FPGA在国内市场中的份额近占2%，还有98%左右的份额依赖进口。

先来看军用CPU。目前来说，在军用CPU上，国产品牌已经可以替代进口的了。像北斗卫星上使用龙芯处理器，雷达等电子设备使用魂芯2号DSP，华睿2号DSP。其中魂芯2号DSP的运算性能是德州仪器TMS320C6678的3倍，是国际市场上同类DSP的4倍，是魂芯1号的6倍，获得多项国家发明专利。

再来看FPGA类芯片。目前来看，高端FPGA芯片主要被美国的赛灵思公司和阿尔特拉公司所垄断，这两个公司制造的FPGA的工艺制程已经达到16纳米和14纳米的了，拥有9000多项专利，基本上后续者是无法绕开这些专利的，所以才导致很多公司打不开这个市场定位大门。而国内制造FPGA的公司主要有京微雅格，国微电子，智多晶，同创国芯等公司，只不过这些公司的产品工艺制程还徘徊在40纳米，55纳米，与赛灵思和阿尔特拉的产品性能有不小的差距。

再来看国产光刻机。国产光刻机基本上是三流水平，一流ASML，二流尼康和，三流就是我国和佳能了。ASML拥有最先进的EUV光刻机，最小工艺制程节点可以达到3纳米（NXE:3600D）；尼康拥有制造DUV光刻机的实力（NSR-S635E）；佳能和我国的光刻机主要就是低端产品。

国产光刻机最小工艺制程节点就是90纳米基本上可以满足军用芯片的制造。早期F22战斗机的芯片是i906mx，工艺制程为0.15微米，集成了1000万个晶体管，主频仅为66Mhz，后期换成了powerpc603。F35战斗机采用的是PowerpcG4芯片，其主频达到1.67Ghz。可以说，使用国产光刻机可哟保证军用芯片不被卡脖子，但是远远达不到商业化的标准。

因为如今手机使用的芯片工艺制程已经低到5纳米了，90纳米的话相差太远了。不过国产DUV光刻机也将在2021年交付，届时国产光刻机将达到世界二流水平，与尼康公司位于同一水平线上。国产EUV光刻机主要被卡在大功率光源，物镜组，双工件台，光刻胶等方面。不过目前正在对这一系列技术进行攻关，相信国产EUV光刻机会到来的。

由此可知，国产军用芯片的性能达到世界一流水准，但是FPGA类的芯片性能还不够强。国产光刻机也快要追上尼康的水平了。

中国的军用芯片和光刻机处于世界什么水平？

我国军用芯片完全是自主研发，从产品设计、生产到包装完全的国产化，技术、性能都是世界上最先进的；生产芯片的国产光刻机，性能还是可以的，在世界上算不上最先进的，但是完全能够满足我国军工需要！

军用芯片主要是对耐用性、耐热性要求相当高，对于能耗、体积要求不高！

中国军用生产龙头企业龙芯、申威完全拥有真正的自主可控性，芯片架构、IP也是完全的自主研发，拥有独立的专利技术、合法的知识产权；不需要依赖国外厂商的授权，不看别人的脸色，不怕别人卡脖子！

一、申威芯片

1、用于超算系统的申威系列芯片，目前的最新型号申威421处理器是“申威64”增强版，是国产高性能多核处理器，主要用于高端桌面计算机应用。 采用了对称多核结构和SoC技术，核心处理器拥有4个64位RISC结构，主频2GHz，有两路DDR3存储控制器和双路PCI-E3.0标准I/O接口。

2、申威26010处理器，具有超前设计，采用28nm工艺，最高主频1.5GHz，跟世界主流的高端芯片工艺有一定的差距，但性能却非常优秀，就凭组装出来的超级计算机达到了世界最强，只能用巧夺天工设计来形容了。这个芯片的设计，在芯片设计史上具有划时代意义。260个核，一共分4组，一组65个核。每一组的65个核里有一个主核，叫运算控制核心，64个从核，又叫运算核心。主核功能全、性能强，可以独当一面，从核要求不高，不需要单独完成任务，在主核的指挥、协调下，利用人多力量大的优点，大家分工合作，互相支援，相互配合，实施“核海战术”。完成了中国超算的世界之最-神威·太湖之光。

二、龙芯-3处理器

我国自主设计的龙芯-3处理器，拥有自主指令集、架构LoongArch。大量用于军事装备、军用电脑、航天航空领域、北斗导航一体化终端设备等信息保密的特殊部门，不过从工艺来看的话，龙芯、申威目前都还是28nm制程，由于军事领域的特殊性，主要是对芯片的性能要求高，能耗和体积可以忽略不计！

龙芯最新的3A5000很快要上市了，这是拥有独立指令集和独立自主设计的龙芯处理器，首次面向PC端，采用的是12nm工艺，芯片工艺，技术性能都前进了一大步，4核的架构、2.5GHz的主频，与同等7nm的ARM架构芯片不相上下，完全达到了世界一流水平！

大国重器，核心科技必须掌握在自己手里，否则就要遭遇卡脖子的问题，中兴、华为遭遇的制裁，说明世界经济发展不是有钱就可以，科学技术也是有国界的。不过这样也好，终于让全世界人民明白了一个道理，核心技术需自己掌握，这逼迫全国人民上下一心，集中优势资源，攻克核心科技。

华为、龙芯中科、金山办公、中科曙光等多家公司成立“同心生态联盟”，开始注重生态系统全产业链，软硬协同发展，这种生态模式，将进一步加速我国“芯片+系统+软件”的生态发展。

半导体设备领域的“国家队”中微半导体设备（上海）有限公司、北方华创有限公司，是国家02重大科技专项承担单位，享受国家集成电路产业投资基金的大力支持，为中国光刻机产业立下了汗马功劳。

(中微半导体设备（上海）有限公司)

中微半导体设备（上海）有限公司研发了多款拥有自主知识产权的光刻机设备，在全球范围内申请了1200余项专利。

(北方华创有限公司生产7nm芯片的光刻机)

北方华创有限公司，开发有12吋晶圆制造的刻蚀机、PVD、CVD、立式氧化炉、扩散炉、清洗机和气体质量流量控制器等设备。陆陆续续从90-28nm制程的12吋集成电路制造设备，已成功实现了产业化，最新研发的14nm制程设备也已交付到客户手里，正在进行试生产。目前已经在向高端集成电路装备市场进军，新研发的光刻机能生产7nm芯片。

综上所述，中国军用芯片完全达到了世界最先进的技术，军用光刻机技术也是不错的，完全能够满足军事技术的需要。

中国的军用芯片和光刻机处于世界什么水平？

我国的军用芯片和光刻机目前处在世界先进水平，但商用芯片还是比较落后的，所以在经济上来说一直处于被压制状态，而在军事领域上，我国属于头部领队，不存在因为芯片而出现被“掐脖子”的情况。

从2018年开始，我国商用芯片就一直处于被压制状态，芯片高度依赖于进口，尤其是2019年，我国芯片进口额已经超过了3000亿美元，这是一个非常庞大的数字，如果这笔钱能够完全消化在本土，近2万亿的财富，会促进多少工作岗位，让多少人脱贫致富。

所以说，我国芯片事业要发展起来，也必须发展起来，不然吃亏的不仅仅是国家，个人的利益也将受到伤害。

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这几年很多人都知道了我国芯片行业发展不景气，处处被国外“卡脖子”，尤其是有些国家，甚至单一控制芯片出口，限制高端芯片流入我国，不让我国高新产业得到顺利的发展，企图这样就能制约我国经济腾飞。

虽然芯片行业对我国总体贸易影响不是很大，但是却处处与我们日常生活相关，因此很多人从民用芯片上考虑到了军用，提出了军用芯片是不是也同样被控制。

这点其实可以放心，我国芯片技术虽然发展的慢，但是发展也有很多年了，虽然最尖端的芯片没有，但是普通的芯片我们却不缺，这一部分的市场份额在国际上也有我们的一隅之地。

我国目前已经可以小规模生产14纳米的芯片了，在航空航天和通信以及军事领域上，已经基本可以自给自足了。

之所以说可以自给自足，主要有两个原因。

①军事领域所使用的芯片，处理的事情只能够归军事用，它不像我们民用领域使用的芯片，要追求性能，相反，性能不重要，重要的是稳定。

②军事领域使用的芯片，主要使用的方向主要用于军事，都是相关部门采购，质量上乘，需要稳定性，而且不计成本。

因此，军事所用的芯片，稳定最主要，具有强的抗干扰能力比贸然追求性能要强得多。

实际上在国际军事领域大国，芯片的使用上也没有贸然追求高端，都是采用14纳米或者28纳米的芯片，有的国家甚至采用的是65纳米或者90纳米的芯片，我国已经属于进入了领先行列。

其实我国不仅军事用的芯片属于自给自足，包括一些高端武器上，如航母，歼20等，都是自主研发的，不依赖于国外。

诚然俄罗斯芯片也不发达，但是依然不惧被压制，就是因为军用芯片不用太尖端。

我国的光刻机技术，对比世界尖端光刻机，确实有很大的差距，不过得益于居安思危的忧患意识，我国研究光刻机也已经很多年了，在世界上也有一些地位，虽然做不到最尖端，但是28纳米的技术也可以了，只有少数几个国家可以超过咱们。

不过我们也要有一个清醒的认识，目前我国虽然在半导体事业上发展的非常迅猛，但是距离头部国家还是有一些差距的，以光刻机为例，虽然我国已经有生产28纳米光刻机的技术了，但是荷兰ASML已经可以生产7纳米工艺的光刻机了，可见我们之间还是有一条巨大的鸿沟需要追赶。

不过我们也不需要妄自菲薄，因为仅有那么几个国家具有生产光刻机的实力，我们比上不足比下有余。

芯片是需要光刻机来制造的，而光刻机的研发更新，离不开巨大的资金投入。

荷兰的光刻机之所以如此好尖端，就是投入巨大。

2017年，那时候的荷兰光刻机就已经主宰了市场，而此时的他每年还会投入巨大的研发经费，用来更新换代光刻机，真所谓逆水行舟不进则退，这研发就是需要马不停蹄的更新再更新，不然就非常容易被对手踩在脚下。

当年，荷兰ASML公司一共销售了300多台的光刻机，赚取了超过21亿欧元的巨大财富，但依然那出了4.8亿欧元用来研发，研发金额占营收的22.8%，可见其投入有多么巨大。

我国想要在光刻机上有所突破，巨大的投入也是不可避免的，为了有更多的资金能够投入到研发之中，希望大家在选择数码产品的时候，多支持支持国产。

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