EUV光刻机难还是原子弹难？

我可以负责人的告诉你，EUV光刻机比原子弹难太多了，美国的原子弹都不知道发展多少代了，但美国依然造不出EUV光刻机。

在这里首先要说明的是，美国不是不想造EUV光刻机，而是美国自己也造不出来，1997美国政府还专门组织了世界上的科技大公司以及美国三大实验室，花了6年时间来证明使用EUV光刻的可行性。当时美国害怕这些科学技术被外国公司掌握，不允许日本的尼康与荷兰的阿斯麦参加，后来阿斯麦求天求地，对美国许下大量承诺后才被允许进入里面做打杂的小弟弟。

当然了，阿斯麦虽然在里面只是做小弟，但他却能分享里面的所以科研成功，这让阿斯麦公司获得了EUV（极紫光线）开发利用的技术的积累，为后面研发成功打下基础。

那么回到问题上，为什么说EUV比原子弹还难？

制造原子弹只要有高浓度的浓缩铀，然后按照核反应原理进行装置就可以了。原子弹技术其实只有两个难点，一个是制造高浓度浓缩铀，一个是把核武器小型化。

制造高浓度的浓缩铀并不难，最原始的方法就是使用离心机制造，这种方法的缺点时效率太低，需要花大量的时间才能生产出足够多的浓缩铀，但是这个只是花费时间而已，并不是不能制造。

把核武器小型化，这个也并不是太难，通过反复计算与实验都可以不断的把核弹头改小，让它具备可携带作战性。

核武器只是大规模杀伤性武器，又不是精密的武器，所以不要把制造核武器想象的太难，只要全世界不禁止核武器，那么世界上任何国家通过一段时间的摸索，都可以造出来。

从理论上讲，再先进的光刻机，只要给世界各国足够多的时间去摸索，同样也能制造出来，但是制造EUV光刻的难度与制造原子弹的难度是不一样的，原因是光刻属于高精密机械，每一个部位都属于一个技术难点，由此制造光刻的技术难点远比制造原子弹的多。

如果说制造原子弹的技术难点只有两个，那么制造EUV光刻机的技术难点起码有一百个。攻克一百个技术难点付出的成本肯定比只攻克两个技术难点的成本要高。

而且制造核武器起码有爱因斯坦提供的理论去指导，而制造光刻机则没有相对要善的科技理论去指导，由此

就拿EUV光刻机的光源来说

EUV就是极紫外光的缩写

制造极紫外光并不困难，因为电子在磁场中接近光速飞行就会发光。

由于电子运动接近光速飞行，而发出来的光又以光速飞行，由于电子与它发出的光在速度上基本是同步的，而电子在飞行中又不断的发光，这时候电子发出的光线在它周围不断的重叠，当光线重叠到饱和时就会发出极紫外光。

由此制造极紫外光并不困难，很多国家都能制造出来，但是要制造250W的极紫外光就很困难。

记住这里的关键词“250W”。

250W是光敏材料对光源能量的要求，如果光源能量达不到250W，那么光刻效率就低，甚至无法光刻，因为涂在硅元上的光敏胶需要一定的温度才会发生化学反应，所以单制造出极紫外光是没用的，温度达不到就不会有太大的光刻效果。

在这里说一些下，选择用极紫外光来光刻，看中的只是它的波长短，只有13.5nm，而波长越短的光线在通过比它波长还小的细孔时，发生衍射率就越低，衍射率低则意味着通过两个距离很小的小孔，那么它们的光线不容易发生重叠，如此一来就得到较为清晰的微缩图像，从而提高光刻图形的精准度。

说白了，使用极紫外光看重的只是它的波长短，可以获得更小更清晰的图像，但是光刻是需要一定能量的。

那么问题来，极紫外光的能量来自哪里？

极紫外光的能量来自于激光所携带的能量转化。

在最先进的EUV光刻机中，激光是激光，极紫外光是极紫外光。

极紫外光是由激光击打锡滴，锡滴被电离后，电子脱离原子核以接近光速的速度在磁场中飞行发出。

而极紫外光的能量由击打锡滴激光所携带的能量转化而已，但是转化率非常低，普遍只有3%左右，想提高这个能量转化率非常困难，目前全球各国通过各种手段获得的最大能量转化率也没有超过5%的。

所以说极紫外光并不难制造，难制造的是光源能量达到250W的极紫外光。

为了制造出更高能量的极紫外光，人类几十年如一日的在奋斗，到目前为止也只有荷兰阿斯兰公司实现了这个目标。

中当前制造的极紫外光最高也只有150w，要达到250W有着相当大的距离。

你们不要小看极紫外光，他是作用很多的，并且在医学治疗上用途是很广的，具有非常高的商业价值。所以全球光源制造公司一直都在这方面持续投入研发，但是却迟迟无法提升极紫外光的光源能量。

也许有的人会说，激光转化率虽然低，但是也是可以转化的，换大功率的激光不就解决了？

理论上的确是可以通过换大功率的激光来解决这个问题，但是首先你得把大功率的激光研发出来，而且还要把激光的光束压缩成nm大小，不然你就无法击打锡滴。

大功率的激光也是高难度的科研项目，如果能制造大功率的激光的话，人类早就把所有的武器弹药扔掉了，改用激光武器。

所以EUV光刻机的第一个难点就是250W的光源不好制造。

单制造出250W的光线，还是不行的，要保证光刻机的商用性，还要解决大量的问题。

第一、光源供应问题

阿斯麦公司为了保证光源充足，他们的激光每秒要击打5万滴锡滴。

记住哦，是一秒5万滴，所以他们要研发一个每秒钟滴5滴锡滴出来的装置，并且每滴锡滴的大小以及运行轨迹，还有落下的时间的间隔不能有太大的偏差，不然激光就会打不中锡滴。

在这里要引用知一个时间单位，叫皮秒，一皮秒等10万分之一秒。

在这里说一下，阿斯麦公司对每一滴锡滴都击打两次的，也就是每皮秒一次，以此提高能量的转化率。

至于阿斯麦公司的极紫外光的能量转化率有没有超过5%，我也不知道，因为这个属于商业机会，他们也没有公布。

第二解决采用镜工作寿命的问题

击打锡滴，会有大量的锡滴阿残渣，为了防止锡滴残渣污染采光镜，让采光效果下降，所以还要做一个磁场，让所有的锡滴残渣在磁场力的牵引下落入收集容器中，避难采光镜被污染。

除此之外，由于极紫外光制造室内温度非常高，所以采光镜一定是要耐高温的，如果不耐高温，在如此恶劣的环境下。用不了多久它们就会发生变形或者毁坏，导致无法采光。

第三、解决光的输送问题

由于极紫外光属于软光，它可以被任何物质吸收，所以它只能在真空中传输，而且还只能使用反射原理来传送光线。

但是还是那句话，任何物质都可以吸收极紫外光，就算用了反射原理它自然不可避难的被吸收，荷兰阿斯兰EUV光刻机的紫外光在传送过程中有98%都被吸收，最后用于光刻机的只有2%。

在这里还涉及到其他两种材料的开发：

一种是滤光材料，由于阿斯麦光刻机的目标只制造更小工艺的芯片，所以要保证所有用于光刻的光线都是13.5nm的，由此他们得制造只允许13.5nm光线通过的光密介质，而这种光密介质要把其他所有波长的光线都拦下来。

另一种是反光镜的制造，他们要制造尽量少吸收或者不吸收极紫外光的材料。

这两种材料制造，都需要大量的经过大量反反复复的实验才制造出来。

第四、解决机械运动误差的问候

芯片的工艺既然是纳米，那么光刻机的各种机械同步运动的误差是要求控制在几nm的范围之内的。

一纳米是多长？跟人指甲一秒钟长的长度差不多。

所以为了尽量的消除机械运动误差，听说阿斯麦公司使用的空气轴承，并且还专门研发了相对应的计算软件。

第五、恒温与防震动

由于紫外光在传输过程中大量的光被吸收，这时候会导致机械内部温度升高，如何让光刻机处于恒温状态是一个需要解决的问题，在这里你们玩注意一点，任何材料都会产生热胀冷缩的，如果不处理好温度问题，那么光刻机的精准度也会受到影响的。

由于芯片工艺制程越来越小，所以要防止机器因为受外界震动而产生各种误差问题，由此在里面有防震动设置，而最好的防震动设置就是磁悬浮。

除了以上内容已之外，还有除尘问题，以及制造更大口径的蔡司镜头等等，每一样都是一个技术要点，而且解决这些技术要点都没有任何捷径，只要依靠基础科技一步步的突破完成。

由此制造EUV光刻机不是那么容易的，比制造原子弹难多了。

EUV光刻机难还是原子弹难？

诚邀。

光刻机更难，而且在难度上不止一个数量级。且听我慢慢道来。

EUV光刻机是荷兰ASML的第五代产品。从第一代光刻机开始到现在，已经20多年时间了。提到荷兰的ASML公司，您也许会比较陌生。不过，这个公司的前身您一定听说过它的名字，那就是在八九十年代充斥电视荧屏广告时间的飞利浦公司。嘿嘿，想起来了吧。

1984年，由于当时的飞利浦面临经营困境，而不得不实施大规模裁员。裁员之后，将其内的优质资产和核心科研人员进行了剥离，ASML也是在那一年从飞利浦独立出来。在当年，飞利浦旗下的家电及照明产品，在行业内均名列前茅，优秀的制造基因使得ASML在诞生之初就获得了天赋一样的传承，其在专注于芯片制造业后，迅速成长为了该领域的强者。从强者到王者ASML行进了三十年，而人类的芯片制造技术也从800纳米规格提升到3纳米。这里的纳米，指的是芯片内部“晶体管”之间的距离。稍微懂得计算的人能明白，这意味着，在单位的体积下，可以容纳更多的晶体管和更密集的集成电路。所以，我们才可以把砖头一样的无显示屏手机逐渐进化到全显示屏的精巧智能手机。其中运算速度的提升何止千万倍。

其实，说起来，目前整个人类科技制造业的明珠就只有两颗，一个是航空发动机，而另一个则是芯片。这两个东西，代表了整个地球制造业的最尖端科技，也代表着这颗星球的最高制造水平。若是，真的有那么一天，外星生命造访地球，那么，咱们只需要把当期最先进的芯片抛给他，想来，以他们对科技的理解，绝对可以一目了然的明白咱们的科技和制造业所到达的境界。

航空发动机挑战的是在极端高温高压下材料和能量系统整合优化输出的极限，而光刻机则挑战的是在纳米级尺度的弹丸之地激光波长和量子隧穿的极限。这两个东西，其实依靠的都是对于材料科学的理解和运用。

人类手工能做到微雕的极限，据说是可以用一根笔直的针在真实米粒上镌刻出一整首诗歌。而光刻机，您可以理解为，是利用激光在硅晶圆上镌刻出上百亿的集成电路。大家都知道，光是一种以波粒二象性为表现形式的物理存在，若把光作为刻刀，在“显微镜”尺度下，给人的感觉更像是张飞的丈八蛇矛，其尖头不是笔直的，而是弯弯曲曲呈现正弦形式波动的。而你也会发现，若是想要刻出更精细的“纹路”，唯一的办法，就是把这把激光刀的波长，降到更低的纳米。简单点理解，就是波长越低，“摆动”越小，咱们才能刻出更细的纹路。

从上面这张图您也可以发现，其实，波长越低，咱们造出来的芯片纳米数就越低。当然，真正的光刻机制造芯片远远不是拿一把刻刀在硅晶圆上雕刻这么简单，它需要涂上光阻材料反反复复的在纯净的硅晶圆上照射几十上百次，用物理化学原理的进行“蚀刻”。限于篇幅，具体的制作工艺无法在这里描述，再说，这制造工艺也属于核心技术，笔者也不可能全都明白。不过，相关的原理却并不复杂，有兴趣的朋友可以自行百度查阅。笔者前期也有一篇问答简单的叙述过这个过程，想拓展阅读的朋友，可以找来看看。

所以，按照目前这种方式，其实人类也快触摸到硅晶圆芯片的物理极限。这不仅是硅这个元素本身的极限，而且这也是光刻机的极限。因为再低，硅片上就很容易出现量子隧穿，（因为电路与电路之间靠得实在太近，以至于他们内部传输的“粒子”都快是彼此擦身而过了）这会造成整体性能的极度下降及不可抑制的发热。

光刻机涉及到十万多个零件，而这些零配件，考验的是这个国家在光学镜片研发制造、极精密零件研发制造（精密机床）、光源设计制造、系统设计及调试、光阻材料研发制造等等方面的综合整体实力。所以，最尖端的光刻机到目前为止也没有量产，几乎就是以手工的方式，以工匠的精神，一个一个零件的攒，慢慢组装，再慢慢调试，靠“水磨”功夫磨出来的。目前的情况是，最先进的光刻机造好之后，重达180吨，超过10万个零件，需要40个集装箱运输，安装调试都要超过一年时间。

由于光刻精度只有几个纳米，所以EUV光刻机对光的集中度要求极高， 它的整机系统对于精细化究竟达到一个怎样的变态程度，这里有一个比喻，可以帮助您加深理解。相当于拿个激光手电照到月球，光斑不超过一枚硬币。而反射用的镜子，要求其长30cm起伏不到0.3nm，这相当于是北京到上海做根铁轨起伏不超过1毫米。

这其中精密零件制造背后涉及到的精密机床，目前其实也是咱们的相对短板。当然，荷兰EUV光刻机，它的零件90%也是进口的，目前主要在他那里进行组装和调试，其中日本主要提供光学镜片，德国提供精密零件、瑞士提供清洗设备，美国提供研发支撑，当然，其中也有咱们器件。

所以，可以毫不夸张的说，这光刻机几乎集中了地球上的所有顶尖技术，若是一个国家就能够独立设计及生产的话，那它的科技绝对可以吊打全球。

而原子弹的难度主要在于高浓度铀的提取，以及在此背后整个化工及冶金体系的搭建。在原理上，你只需要明白，它一定是可以成功的，因为本来就有成功的例子摆在那里嘛。不断的实验获取数据，就会离成功越来越近。很难，但六十年代的咱们，也克服了，不是么:）

写在最后

其实，当时光刻技术也曾经卡在193纳米整整二十年，因为英特尔公司对摩尔定律的执念，所以集合了人类精英来了一次技术上的愚公移山，无论如何，我们还是应该为这些有梦想的人喝彩。认识到咱们自身的不足，更可以鼓足咱们继续上路的勇气。也许，最终有一天，人类会发明新的材料，替换掉硅基芯片，而曾经的奋斗史，却可以作为整个人类的精神财富。期待摩尔定律可以一直灵验下去，成为真正的定理。

注：图二来自于网络引用 感谢原作者总结。

EUV光刻机难还是原子弹难？

问这个问题的基本上是对EUV光刻机不太了解的人，至于光刻机制造难度更难，还是原子弹制造更难，我们通过对比简单的数据就知道。

目前全球能制造出原子弹的国家并不少，已经部署原子弹的总共有8个国家，分别是美国，俄罗斯，中国，英国，法国，以色列，巴基斯坦以及印度。

另外日本、德国也具备制造原子弹的实力，只是他们不允许制造而已，还有包括伊朗，朝鲜，巴西，南非这些国家也具有制造原子弹的潜力。

由此可见，目前很多国家都已经掌握了原子弹的制造技术，只是迫于国际压力，他们不敢明目张胆的制造出原子弹而已，因为原子弹的制造会受到国际的制裁。

而且目前已经造出原子弹的这些国家当中，大多数国家都是在上世纪70年代之前造出来的，比如美国在1945年就已经造出来，俄罗斯在1949年就造出来，中国在1964年造出来，即便最晚的印度在1974年也造出来了。

而光刻机的诞生是伴随着半导体产业的发展而诞生的，在上世纪60年代的时候，光刻机已经开始出现，但当时真正具备制造光刻机实力的也只有几个国家，分别是美国，日本，中国，德国等少数国家，但这些国家制造出来的光刻机技术都相对比较。

而目前全球最高端的EUV光刻机只有一个国家拥有，那就是荷兰的ASML，就连日本拥有尼康、佳能这样的顶尖巨头也造不出7纳米以上的EUV光刻机，所以目前全球的7纳米EUV光刻机基本上被荷兰的ASML一个企业垄断。

此外，因为7纳米以上光刻机技术难度更大，目前日本的尼康和佳能已经放弃了高端光刻机的研究，只保留中低端的光刻机。

而过去十几年，我国在光刻机研究方面也投入了大量的资金和精力，但是长期以来我国已经量产的光刻机也只不过是90纳米，虽然目前我国28纳米光刻机已经取得技术上的突破，但要真正实现量产也需要等到2021年，或者2022年。

就算我国28纳米光刻机生产出来了，但是跟荷兰asm7纳米光刻机的差距仍然是非常大的，所以短期之内我国想要制造出7纳米以上的高端高光刻机难度很大。

通过简单的对比之后，我们就可以发现EUV光刻机的制造难度，要远远比原子弹制造难度更大。

原子弹的制造其实不需要复杂的工程，需要使用到的产业链和配件并不是很多，原子弹制造最难的一个环节就是铀浓缩，只要把铀浓缩提炼出来了，那么原子弹制造就水到渠成了。

光刻机制造则完全不一样，目前一台高端光客机有几万甚至上10万个零部件构成，这些零部件都是行业内最顶尖的技术，一个零部件都需要经过反反复复的打磨，才符合高端光科技的要求。

比如之前美国一个工程师曾经说过，为了打造光刻机上的一个零部件，他反反复复打磨了10年时间。

由此可见，光刻机的技术要求是非常高的，也正因为如此，目前全球没有任何一个国家能够单独生产出高端光刻机，即便荷兰ASML垄断了全球7nmEUV光刻机，但是他们90%以上的零部件都是依赖于从美国，德国，日本，中国台湾，韩国等一些国家或地区进口。

比如asml的光源来自于美国企业，镜头来自于德国的蔡司，光罩来自中国台湾等等。

这里面单是镜头和光源就是让人头疼的一件事情，比如德国蔡司提供的镜头技术难度到底有多大呢？我们举一个很简单的例子，如果把一个小小的镜头比作整个德国的国土面积，那么最高凸起的地方不能超过一厘米，大家自己想象一下这个要求到底有多高。

也正因为EUA光刻机技术难度就太大，所以目前真正掌握EUV光刻机技术的国家只有荷兰一个，其他国家即便有精力有资金投入，短期之内也不可能研究出来。

毕竟EUV光刻机所需要的几万个零部件，短期之内某一个国家不可能完全生产出来的，它需要多个国家多个企业共同努力，共同合作，才能打造出高精尖的光刻机。

但在一些核心零部件上，目前西方国家一直对我国进行技术封锁，这也是为什么我国十几年来光刻机研发进度非常缓慢的一个重要原因，因为我们所有核心零部件都需要自己一步一步的从0开始研发，所以难度是非常大的。

总之，原子弹只要你掌握了制造原理，并把铀浓缩提炼出来之后就可以制造出来，但是光刻机即便把所有的零部件放在你面前，让你自己组装，你也未必能够生产出合格的EUV光刻机，这就是原子弹跟光刻机制造的区别。

EUV光刻机难还是原子弹难？

本来不想回答这个问题，但是看了大部分老师们的“EUV光刻机比原子弹”还难造的言论，我还是忍不住了来回答这个问题。

我想问问老师们：你们知道原子弹的制造原理吗，制造难点在哪里吗？原子弹是大规模杀伤性武器，原理很简单，但是研造技术难度大。首先要有核材料，也就是铀235，铀235储量少，开采难度大，没有先进的技术水平很难获得铀235；其次是离心机，而且是上万台串联的不停工作；再者，必须拥有庞大的军工系统；还需要有尖端的物理学家，巨额资金投入，缺一不可。

大部分老师的观点是：世界上能制造原子弹的有7-8个国家，而EUV光刻机只有荷兰能造，然后从光源等多方面论述，得出了光刻机比原子弹难造的谬论。

原子弹是超级武器，是确保国家安全的最有效威慑手段，只要你拥有了核武器，也意味着国家进了保险箱，无核国家不敢轻易招惹你，有核国家也忌惮你。拥有核武器就成为各个国家的追求的目标，不管难度有多大，都会举全国之力研发、制造原子弹。

EUV光刻机是高端精密机械，制造难度固然很大，但是除中国外可以花钱买来直接用，没必要费那么大劲搞研造；原子弹你能买来吗？有人卖给你吗？

制造原子弹仅有决心是不行的，没有技术是造不出啦的；造EUV光刻机技术不是决定因素，决心最重要。

综上所述，老师们你们还认为原子弹容易造吗？欢迎讨论🙏🙏🙏

EUV光刻机难还是原子弹难？

还是原子弹难！EUV光刻机相对简单！

EUV光刻机确实很难，现在世界上也只有荷兰ASML公司能够制造出来这样的光刻机。但是对于我们来说，在EUV光刻机上已经有一些技术储备，现在可能只需要动用几个研究所加上大学加上光刻机厂家就足够了，可能短则两三年，长则五六年就能够获得突破，成功制造出来EUV光刻机。

原子弹显然是更难一些，原来我们搞原子弹的时候，面临着技术封锁以及物资等各方面的封锁，而且当时世界上也就是极少数国家有这个原子弹技术。但是当时的情况下，搞出来原子弹，就意味着国家拥有了威慑力量，就意味着没有人胆敢再去轻易惹你，于是在当时非常困难的条件下，我们开始举全国之力来搞原子弹，最终历经数年搞出来了原子弹，并且搞出来了氢弹，而且导弹技术也是获得了快速的突破，拥有了洲际弹道导弹技术，拥有了更强的威慑力量。显然在当时的条件下，搞出来原子弹是更难一些的。

现在对我们来说，想搞出来EUV光刻机可能也不算太困难的事情，我国工业体系非常完善，是全球拥有最完善制造业体系的国家。而且我国在历史上也有光刻机的研发，而且我国有几个研究所已经对EUV光刻机做了很多年的研究和技术储备，再加上我国上海微电子已经研制出来了28纳米光刻机，可能会在明年或者后年交货。

这款28纳米光刻机，应该是193nm duv，也就是采用了193nm光源的光刻机。而台积电前两年生产第一代7nm芯片是采用的使用的就是193nm光源的光刻机，而之前上海微电子生产的90nm光刻机使用的是365nm的光源，还有上海微电子最近10年的研发费用只有区区6亿元人民币，还没有一台光刻机的价格贵，这就能搞出来193纳米光源的DUV光刻机可能也算是非常牛了。

因此，从现在我国光刻机的研发情况来看，我们的差距可能并没有想象中那么大，也没有某些人说的那么大，而且对于我国非常有利的还有市场规模。根据海关统计，我国2019年半导体进口金额达到了3040亿美元，折合人民币达到了2.1万亿元的规模，这么大的规模，其中大部分都是能够采用国产193纳米DUV光刻机进行制造的。

在这样的情况下，我国EUV光刻机如果加大重视力度，开始集中人力物力提速研究开发，那么我国有可能很快就能够拥有EUV光刻机的技术，就能够在未来的几年内生产出来先进的EUV光刻机产品。

综上所述，原子弹更难，而EUV光刻机显然更简单一些，而且我们已经研发出来了193纳米的DUV光刻机，未来只要我们加大研发力度，更加重视，那么可能很快我们就能够拥有自己的EUV光刻机产品了。

EUV光刻机难还是原子弹难？

这是一种期待和情怀的比较。

华为因为强大被围堵，华为的芯片被断供，普通人认为是我们没有EUV光刻机，就生产不了芯片，我们连原子弹都能造出来，而为什么不能造出光刻机呢，因此也就有了这么一个问题。

这个问题反应了大家的期待和爱国情怀，我们也不会束手待擒，相信最近中国中科院的的表态，“将国外出口管制的清单转化成我们的任务清单”。试问哪一样高新技术我们没有被卡过，被封锁过。而我们屈服了吗，我们不但会成功，而且有的会做的更好。

那么究竟光刻机的制造难吗？先简单直白地个绍一下光刻机。芯片领域出现了一个“没有国籍”的架构，也就是综合各国各领域的先进技术。它是一种集合了数学、光学、流体力学、高分子物理化学、表面物理和化学、精密仪器、机械、自动化、软件、图像设别领域顶尖技术的产物。

它的工作原理，就是紫外线作刀的“硅上雕花”，当今最先进的EUV光刻机的精度是7纳米，相当于一根头发的万分之一。而且在雕刻过程中被雕刻的晶圆需要被快速移动，误差必需控制在纳米级别。有人形象地比喻，这就相当于在眨眼之间端着一盘菜从天安门冲到上海外滩，恰好踩到预定的脚印上，而菜稳稳地不会洒漏。

做一个芯片大概需要3000道工序，最先进的光刻机上有10万个零件，而一辆汽车零件才5千个。全世界现在能生产光刻机的厂家只有荷兰的ASML，每台售价一亿美元。

中国台湾的台积电可以买到EUV光刻机，而大陆的中芯国际据说到现在都没拿到出口许可证，中芯国际最精细的制程是14纳米。华为手机的最新芯片麒麟980、麒麟990己是7纳米，因此华为目前处在被卡脖子阶段。

荷兰制造光刻机的ASML公司表示：就算公开图纸，别人也造不出光刻机。

光刻机采用了多个国家的顶尖技术与硬件，由多家巨头公司共同合力研发，其内部零件数量多达10万个，4万个螺栓，3000根电线，2公里短软管等等，整台机器重量高达180吨，结合了全球多个科技强国的顶尖技术相互融合的结晶。

它的光源技术是美国的，光学设备是日本的，轴承是瑞典的，阀件是法国的，机械工艺和蔡司镜头是德国的，制造技术是来自台积电和三星。

就在这种情况下，中国的上海微电子装备公司，也独立将光刻机突破到了22纳米，也有介绍其它纳米级的，虽然与华为的芯片7纳米的还有一段距离，但相信举全国之力，我们自己的光刻机只是时间问题。

造原子弹有多复杂，相信大家都知道当时我们是靠用算盘计算，在那种艰难困苦的条件下，制造了世界最先进的核武器，奠定了我们的大国基础。原子弹仅仅提练铀这一项就不是一般国家能够做到的，我们不知道原子弹核武器制造有多么难，但是我们可以确信，只要中国人需要，那么中国人就一定会成功。

现在的中国早己今非昔比，我们没有导航，我们的北斗导航系统最先进，我们没有修地铁的盾构机，买不起，也不卖给我们，我们自己造出的盾构机又占领了国际市场，就连大家都吐槽的笔芯头，说我们造不出来，现在我国一炉钢水，生产的笔芯够全世界用上三年。

或许，我们以前没有在意生态供应链上环节，我们是被别人处心积虑地有选择和针对性地打压的，这将促使我们调整整个社会的结构供应链，恰如中科院的表态，我们被打压的将是我们的任务清单。只要我们重视起来，凭我们国家现在的各项实力，制造光刻机会象制造原子弹一样，在我们最需要的时候，一定不负国人所望。