光刻机技术的难点是什么？中国有没有能造光刻机的企业？

难度超大，尽管如此，还是可以造的出来的，建国初造原子弹难度小吗？不也造出来了吗？关键是从现在开始，立足当下，一样样来，聚全国之力，不相信造不出来。

光刻机技术的难点是什么？中国有没有能造光刻机的企业？

    光刻机的难点是“技术封锁”，光刻机的关键部件来自不同的发达国家，美国的光栅、德国的镜头、瑞典的轴承等，关键是这些顶级零件对我国是禁运的。我国的中芯国际早在2017年就预订了一台ASML的7nm制程工艺的光刻机，由于很多原因，至今仍未收到货，可以说“有钱也买不到”。

    目前，光刻机领域的龙头老大是荷兰的ASML，占据了全球80%的市场份额，而最先进的EUV光刻机只有ASML能够生产，光刻机的技术门槛极高，是人类智慧大成的产物。

    ASML光刻机90%的零件来自对外采购，德国的光学设备，美国的计量设备和光源设备，而ASML要做的就是精确控制，7nm EUV光刻机有13个系统，3万个部件，动作要非常精准，将误差分散到这13个分系统中。

    ASM还有一个非常奇特的规定，只有投资了ASML，才能获得优先供货权，也就是说自己的客户需要先投资自己才行，这种合作模式ASML获得了大量的资金，英特尔、三星、台积电、海力士在ASML都有可观的股份。因此，光刻机本来就供不应求，ASML未来几十年的订单早已被预约完了。

    西方有个《瓦森纳协定》 ，我国只能买到ASML的中低端产品，出价再高，也很难买到高端设备。

    中芯国际早在2017年就预订了ASML最新的7nm制程工艺的光刻机，先是由于失火，导致订单后延，然后是因为美国方面的干扰，搬出了《瓦森纳协定》阻挠ASML向我国出售最先进的光刻机。

    我国生产光刻机的厂商是上海微电子，主要集中于低端市场，稳定生产90nm及其以下的制程工艺，距离ASML的7nm制程还有很大的差距。

    虽然，上海微电子还未能够在高端光刻机市场有所突破，但是从无到有，在低端光刻机市场占据了垄断地位，所以上海微电子是值得大家尊敬的。目前，上海微电子正在向高端光刻机方向发展，据说已经突破了24nm制程工艺的关键技术，利用低端市场所赚取的利润，去支持高端市场研发，是可行的路线。

    总之，“自己有的才是真的，只有突破了技术，才能不被卡脖子。”美国针对华为的种种行为，充分证实了这句话。

光刻机技术的难点是什么？中国有没有能造光刻机的企业？

中国光刻机现状及领域突破

中国半导体芯片长期以来一直靠进口为主，每年进口的集成电路设备及材料大约为15000亿左右，相当于我国每年的石油进口量甚至还要多。

众所周知，芯片制造技术是一项综合性很强的技术，不仅聚合了很多的半导体领域的尖端技术，而且还需要先进的半导体设备匹配和强大的相关技术的储备，才能打造出一条技术先进的芯片生产线。

因此没有先进的半导体技术和各种半导体设备，要想打造出一条芯片生产线可谓是难上加难。

近期中芯南方厂的首条14nm芯片生产线正式投产，良品率超预期达到了95%，这标志着中芯国际已经超越了台积电南京厂、格芯等厂商，杀进了格罗方德、联电、东芝、美光等芯片厂商的阵营，拿到了跻身于全球先进芯片代工厂行列的入场卷。

中芯国际14nm芯片的量产，不仅让中国半导体芯片的发展向前推进了一大步，而且也解除了华为14nm芯片供给的后顾之忧。

中芯国际的14nm先进芯片生产线的诞生，只是中国芯片万里长征迈出的一小步，后面还有更长、更远的路要走，因为我们的目标是星辰大海。

目前我国半导体行业面临最为严峻的为光刻机，虽然14nm已经基本实现量产，但在7nm甚至是5nm方面全部空白，而且生产14nm的光刻机也得从荷兰阿斯麦进口。

而光刻机是芯片制造设备中最为核心的设备，我国光刻机生产龙头企业中微也只能生产90nm光刻机，尖端科技一直受制于人，出钱也买不到。

近年来，中国在半导体，尤其是集成电路制造领域发展迅速。

国内半导体芯片企业存在三方面机遇。一方面国内用户在市场上仍占了非常大的比例，每年购买芯片的量非常大；第二，5G、IoT、AI等技术会带来一些新的机会；第三，受国际形势的变化影响，芯片产业成为战略产业。国内芯片企业如何离客户近，通过客户把资本、人才聚集，也是一个很重要的机会点。

任何一个领域的发展都离不开国家的帮助，芯片行业也不例外。在国务院发布的《中国制造2025》中提到，“2020年中国芯片自给率要达到40%，2025年要达到50%”。为了达到这个目标，国家也拿出巨额资金用于芯片及半导体技术研发。

芯片研发是半导体产业最核心的部分。这需要大量的人力、物力投入，长时间技术积累和经验沉淀。虽然我们短时间内实现赶超难度很大。但从近几年的产业发展来看，技术差距正在逐步缩小。“中国芯”未来值得期待。

光刻机技术的难点是什么？中国有没有能造光刻机的企业？

芯片产业大体上可以由上、中、下游三个产业链来囊括，上游指的是芯片的研发设备公司，苹果、华为、高通等公司是典型的代表；中游指的是芯片生产类的公司，下游指的是封测和组装公司。光刻机的生产公司属于中游，其中比较著名的就是荷兰的ASML公司，几乎垄断了光刻机市场80%的份额。

那么，光刻机技术究竟有哪些难点，为何ASML公司能够一家独大？我国当前有哪些制造光刻机的公司呢？

制造光刻机的技术难点

我们先来简单的了解一下光刻机工作的技术原理。当我们制作芯片的时候，电路图经过光刻机投放至底片（涂满光刻胶的硅片），光刻机不断蚀刻掉光刻胶，露出硅面之后做化学处理，不断反复的蚀刻，直到芯片制作完成。

这里面有两点要求较高，一个是光刻机的中心镜头，一个是光刻机的光源。

大家应该知道，ASML公司光刻机的镜头来自德国蔡司，光源由美国CYMER公司独家提供。光刻机的中心镜头对于镜头要求较高，需要高纯度透光以及高抛光，能够达到这一标准的公司并不多（光刻机工艺制程越高，要求也就越高）。镜头的打磨对于匠人的技术要求等级较高，并非是工业化能够解决的问题，需要十几年甚至是上百年的技术沉淀。光刻机光刻机，对于光源的要求更是重中之重，需要体积小、功率高、稳定性强的光源（这也是制约我国光刻机向高端进军继续解决的难题）。

除此之外，光刻机的工作台、侵液系统的技术难点依然较高。

国内能够制造光刻机的公司

能够制造光刻机与实现芯片代工生产是两个概念，这里面有两家公司不得不提。其中一家是上海微电子装备公司，另外一家便是中芯国际。

上海微电子装备公司是国内光刻机生产制造公司，生产的SSX600系列光刻机可以实现90nm的工艺制程，与ASML公司5nm工艺制程的光刻机确实存在不小的差距。再来说说中芯国际，这是一家芯片代工公司，当前已经具备了14nm工艺制程能力，12nm也进入了测试阶段。值得说明的是，中芯国际花费1.2亿美元从ASML公司预定了一台光刻机，预示着我国芯片代工即将挑战7nm高端工艺制程。

虽然即将具备高端芯片代工的能力，但是依然无法掩盖我国光刻机生产的落后局面，国产芯的发展之路依然艰辛！

引申阅读

光刻机发展较为滞后，确实会使得我国芯片产业受制于人。

例如，最近台积电削减华为晶圆产能20%订单的事情，或将会导致华为痛失高端旗舰手机市场20%份额。台积电的借口是看到华为库存较高，担心会产生风险才会取消订单（个人觉得与美国的施压不无关系）。哪种原因导致台积电削减华为订单我们不做过多猜测，但是这里却透露出一个不好的讯息！

台积电并不会因为华为订单的缺失而导致利润下降（苹果、高通补齐订单），华为却会因为台积电而受到较大的影响！

对于我国半导体芯片的发展现状，您怎么看？

欢迎大家留言讨论，喜欢的点点关注。

光刻机技术的难点是什么？中国有没有能造光刻机的企业？

想知道光刻机的制造难点在哪里，还得从芯片的制造过程说起!芯片的制造的大概过程是:芯片设计，晶片制作，封装制作，测试。而最难的步骤就是晶片制作，这个过程就需要先进的光刻机了。但是呢，紫外光源又分为极紫外EUV，深紫外DUV，紫外UV，可见光。从上到下波长依次增大！由此可知，极紫外光EUV的波长最短，所以说使用极紫外光EUV做为“刻刀”的光刻机分辨率极高，所以才能有7nm，5nm制程的芯片出现。

而光刻机主要是由测量台，曝光台，激光器，光束矫正器，能量控制器，遮光器，能量探测器，掩膜台，物镜等组成。即便是阿斯麦制造的光刻机，也是采购德国的蔡司公司的镜头，美国Cymer公司的光源。可以这样说，阿斯麦制造的光刻机是集全世界的先进技术于一体。此外，对于一些特殊的接口，需要用极其精密的仪器打磨，调试上百万次。

首先来说，光刻机需要的镜头误差必须控制在纳米级别，而能够制造出这种镜头的国家是凤毛麟角，德国的蔡司公司就可以制造出这样的镜头。还有比较重要的光源发出器极紫外光EUV，这个晶体也是难以制造的。此外就是机械部分，驱动机械，转轴机械部分都需要极高的精细度，制造这些机械设备就需要超精密机床，而机床则掌握在德日等国的手中。还有就是整个控制系统软件的编写，这个难度也比较大。如何防止光刻区的产生电磁辐射等等。由此可知，想要一个公司，不依靠外援全部搞定以上这些超精密仪器，那难度可想而知。别说一个公司了，就算一个国家也难以搞定。毕竟光刻机涉及的领域太多了，50000多个超精密部件根本就不是一个国家所能解决的。

其实光刻机需要的光学镜头的制造难度就比较大，需要高质量的合成石英玻璃，别小看这块玻璃，制造这块玻璃需要去应力，去气泡条纹，提纯度等。另外就是超高球面型精度镜片的加工，必须要保证加工精度。

还有就是必须的发光晶体。事实上，关于KBBF晶体，我国则是领先世界的，估计是不缺乏这个部件的。那么，我国光刻机应该就是被像镜头，软件系统，机械部件拦住了。

而我国也具备制造光刻机的实力，只不过制程工艺不如阿斯麦的光刻机。我国是由上海微电子研制的14nm制程的光刻机，目前已经经过专家的验收和测试了。而武汉光电所已经研制出9nm制程的光刻机了，我国光刻机技术只会与国际先进水平越来越近，总有超越的一天。

光刻机技术的难点是什么？中国有没有能造光刻机的企业？

把国足解散，养国足的钱聘请一位顶尖级光刻机专家，不出两年，我们就是专家，这个很光荣，比花钱买耻辱强了多了